لیتوگرافی ۷ نانومتری، گام بعدی صنعت تراشه است. کمپانی‌های بزرگی مثل اینتل و سامسونگ می‌کوشند تا هر چه سریع‌تر خطوط تولیدی با بازدهی بالا برای تولید تراشه با چنین لیتوگرافی ظریفی تأسیس کنند. در ادامه با تلاش جدید اینتل در این راستا آشنا می‌شویم.

اینتل هفته‌ی پیش هم‌زمان با اعلام گزارش مالی فصل جدید، از تأسیس یک کارخانه‌ی آزمایشی برای تولید تراشه‌ها با لیتوگرافی ۷ نانومتر خبر داد. پردازنده‌های فعلی اینتل و البته دو نسل قبلی با لیتوگرافی ۱۴ نانومتری تولید می‌شوند و گزار به لیتوگرافی ۷ نانومتری، موجب بهبود توان مصرفی و سرعت تراشه‌های نسل‌های بعدی می‌شود.

ظریف‌تر شدن لیتوگرافی فرآیند پیچیده‌ای است. در حقیقت کاهش فاصله‌ی مدارات تراشه، چیزی نیست که به سرعت و با چند تغییر ساده اتفاق بیافتد. اینتل قرار است تراشه‌های Cannon Lake‌ را با لیتوگرافی ۱۰ نانومتری تولید کند و به این ترتیب حداقل یک نسل تا معرفی تراشه‌هایی که توسط لیتوگرافی ۷ نانومتر تولید شده‌اند، فاصله داریم. قبلاً اعلام شده بود که کنون لیک با لیتوگرافی ۷ نانومتری تولید می‌شود، اما گویا تأخیر بیش از پیش‌بینی اینتل بوده است.

اینتل چند سالی برای آزمودن لیتوگرافی جدید وقت صرف می‌کند و زمانی که بازدهی لیتوگرافی جدید و به عبارت بهتر درصد تراشه‌های موفق به حد مطلوب رسید، این لیتوگرافی در مقیاس انبوه استفاده خواهد شد.